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三星宣告量产3纳米制程芯片,超车台积电

2022-7-7 11:47| 发布者: wdb| 查看: 40| 评论: 0|原作者: [db:作者]|来自: [db:来源]

摘要: 三星宣告量产3纳米制程芯片,超车台积电,更多科技新闻关注我们。

记者 | 彭新

6月30日,三星电子宣告曾经最初大范围制造3纳米芯片,是全世界首家量产3纳米芯片的企业。

三星称,与前几代工艺运用FinFET技艺不同,三星运用的全环绕栅极(gate-all-around, GAA)晶体管技艺,使新开发的第一代3纳米工艺可行下降45%的功耗,功能提升23%,并降低16%的面积。

纳米为一米的十亿分之一,是料理芯片时经常使用的晶体管宽度单位。这种数字越小,芯片制程就越领先进步,也越简单提升功能。三星估计,在下一阶段芯片功能会提升,功耗和产物大小还将进一步下调。

三星并没有推出首次发布消费者名单,也无具体讲明新芯片的产量,但市场传出三星3纳米制程开始消费者有上海磐矽半导体和高通等企业。

在晶圆代工市场,最重要的为台积电和三星两家企业竞争,而台积电仍居于主导位置,占全世界晶圆代工营收的一半以上,也是iPhone、iPad等产物料理器的独家供货商。

至于台积电3纳米制程进展,台积电董事长刘德音曾在本月初的股东会上说起,领先进步制程的进展都依照计划进行中,估计下半年将量产3纳米芯片。

与三星不同的是,台积电将采纳较为老练的FinFET(Fin Field Effect Transistor,FinFET)工艺,一直到2025年量产2纳米芯片时,才会采纳GAA技艺。还有报导称,苹果和英特尔正好测试台积电的3纳米制程工艺。这也意指着,三星、台积电将以不同架构设置的3纳米制程发展对决。

日前三星也在开发3纳米乃至2纳米所需的第二代技艺,声称相干技艺能使晶片效率较7纳米时提升35%、面积降低45%,功耗下降五成。