转自：九派新闻

近日

华中科技大学

机械学院刘世元教授团队

成功研发出

我们国家首款十足自助可控的OPC软件

并已在相干公司实现效果转化和资产化

填补了国家内部空白

“OPC是芯片设置用具EDA产业软件的一个，无这类软件，即便有光刻机，也造不出芯片。从根基探讨到资产化利用，咱们团队整整走了十年。十年磨一剑，便是要解决芯片从设置到生产的卡脖子难题。”

据刘世元推荐，光刻是芯片生产中最为要害的一个工艺，便是经过光刻成像体系，将设置没有问题图形转嫁到硅片上。随着芯片大小不停缩短，硅片上的曝光图形会发生畸变。在90nm甚而180nm之下芯片的光刻生产前，都必需采纳一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件发展改良。无OPC，全部IC生产厂家将失去将芯片设置转化为芯片产物的能力。

计算光刻OPC原理图

日前，全世界OPC用具软件市场十足由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国企业占领。

刘世元是华中科技大学集成电路测量配备探讨中心、光谷实验室集成电路测量检验技艺创新中心主任。他早年师从原华中理工大学校长、著名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。

2002年，刘世元在学院派遣下，作为最早的几个技艺骨干之一，加盟上海微电子配备局限企业（SMEE），承受国度863重要专项——“100nm光刻机”研制任务，为全体构成员、操控学科负责人。经过3年多的奋斗，他创建了SMEE第一种操控工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步操控的技艺困难。

“20年前咱参加国度重要专项100nm光刻机的研制，回到学校后，咱就一直在从事计算光刻方面的探讨事业，坚持做根基的探讨，做要害技艺的攻关。”2005年，从上海回到学校以后，刘世元在摸索中渐渐找准了本人的学术定位：面向IC生产要求，立足领先进步光刻与纳米测量根基理论及学术前沿展开探讨。2010年初，他准确选定了两个主攻探讨方向：面向IC纳米生产的计算光刻与计算测量。十好几年来，他和团队在该范畴的根基理论与技艺创新上做了众多事业，接踵得到国家内部外学术界和资产界同好的重视和认可。

“2013年，咱首次赴日本京都参与第6届世界光谱椭偏学大会，那时还只能当听众。到了2016年，在德国柏林举办的第7届世界光谱椭偏学大会上，咱应邀做了大会专题汇报，成为该学术会议创办23年来第一位做大会专题汇报的华人学者。”刘世元回忆道。现在，刘世元专注集成电路计算光刻的根基探讨已有20余年。刘世元团队坚持最底层的代码一行行敲、最根基的公式一种个算，终归塑造来自主可控的OPC软件算法。

刘世元显示，期望本人的探讨效果能够终归转化成产物，为国度和社会进行作奉献。往后，他将带领团队和他所创立的宇微光学软件局限企业加速产物推广步伐，加速映入国家内部外芯片生产厂家市场，力争成为全世界芯片资产链中要紧的一环。

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